苏州依斯倍环保装备科技有限公司

新闻 环保科普
半导体含镍废水处理回用工艺 来源:依斯倍     发布日期 2024-07-17 09:00

废水处理 (68)


随着半导体技术的不断进步,该行业对清洁生产及废水处理的要求日益严格。半导体制造过程中产生的含镍废水若未经处理直接排放,不仅会造成水体污染,还可能引发生态平衡破坏。因此,开发有效的半导体含镍废水处理回用技术成为行业关注的焦点。

含镍废水主要来源于电镀、蚀刻和清洗等工序,其特点包括pH值范围广、镍离子浓度变化大以及可能含有其他有害物质如络合剂和有机物等。这些特性要求废水处理工艺具有较强的适应性和去除效率。

半导体含镍废水处理工艺流程

1. 预处理阶段:通过物理过滤和化学沉淀,去除大颗粒悬浮物和部分镍离子。使用混凝剂和絮凝剂加速沉淀过程。

2. 深度处理阶段:

  - 膜分离技术:采用反渗透(RO)或纳滤(NF)膜,有效截留镍离子及其他小分子污染物。

  - 离子交换树脂:利用特定树脂吸附镍离子,实现高精度去除。

  - 电化学法:通过电解,使镍离子在阳极沉积,既可回收金属镍,又能净化水质。

3. 后处理阶段:通过紫外消毒或臭氧氧化,确保出水无菌无害,满足回用标准。

综合运用多种处理技术,才可以有效解决半导体含镍废水处理的难题,实现废水资源化。未来的研究方向应侧重于进一步提高处理效率、降低运行成本及探索更广泛的回用途径。


工业废水处理10

【责任编辑】:依斯倍

版权所有:m.cps88.com   转载请注明出处

【本文标签】: 废水处理回用 半导体含镍废水处理 半导体含镍废水处理回用

上一篇: 高氯酸盐废水处理回用工艺

下一篇: 石英粉末废水处理回用工艺

返回 新闻中心